Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies

· NATO Science Series II: Mathematics, Physics and Chemistry 55. grāmata · Springer Science & Business Media
E-grāmata
363
Lappuses

Par šo e-grāmatu

An up-to-date collection of tutorial papers on the latest advances in the deposition and growth of thin films for micro and nano technologies. The emphasis is on fundamental aspects, principles and applications of deposition techniques used for the fabrication of micro and nano devices. The deposition of thin films is described, emphasising the gas phase and surface chemistry and its effects on the growth rates and properties of films. Gas-phase phenomena, surface chemistry, growth mechanisms and the modelling of deposition processes are thoroughly described and discussed to provide a clear understanding of the growth of thin films and microstructures via thermally activated, laser induced, photon assisted, ion beam assisted, and plasma enhanced vapour deposition processes.

A handbook for engineers and scientists and an introduction for students of microelectronics.

Novērtējiet šo e-grāmatu

Izsakiet savu viedokli!

Informācija lasīšanai

Viedtālruņi un planšetdatori
Instalējiet lietotni Google Play grāmatas Android ierīcēm un iPad planšetdatoriem/iPhone tālruņiem. Lietotne tiks automātiski sinhronizēta ar jūsu kontu un ļaus lasīt saturu tiešsaistē vai bezsaistē neatkarīgi no jūsu atrašanās vietas.
Klēpjdatori un galddatori
Varat klausīties pakalpojumā Google Play iegādātās audiogrāmatas, izmantojot datora tīmekļa pārlūkprogrammu.
E-lasītāji un citas ierīces
Lai lasītu grāmatas tādās elektroniskās tintes ierīcēs kā Kobo e-lasītāji, nepieciešams lejupielādēt failu un pārsūtīt to uz savu ierīci. Izpildiet palīdzības centrā sniegtos detalizētos norādījumus, lai pārsūtītu failus uz atbalstītiem e-lasītājiem.