Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- and Nano-Technologies

· NATO Science Series II: Mathematics, Physics and Chemistry 55. kniha · Springer Science & Business Media
E‑kniha
363
Počet strán

Táto e‑kniha

An up-to-date collection of tutorial papers on the latest advances in the deposition and growth of thin films for micro and nano technologies. The emphasis is on fundamental aspects, principles and applications of deposition techniques used for the fabrication of micro and nano devices. The deposition of thin films is described, emphasising the gas phase and surface chemistry and its effects on the growth rates and properties of films. Gas-phase phenomena, surface chemistry, growth mechanisms and the modelling of deposition processes are thoroughly described and discussed to provide a clear understanding of the growth of thin films and microstructures via thermally activated, laser induced, photon assisted, ion beam assisted, and plasma enhanced vapour deposition processes.

A handbook for engineers and scientists and an introduction for students of microelectronics.

Ohodnoťte túto elektronickú knihu

Povedzte nám svoj názor.

Informácie o dostupnosti

Smartfóny a tablety
Nainštalujte si aplikáciu Knihy Google Play pre AndroidiPad/iPhone. Automaticky sa synchronizuje s vaším účtom a umožňuje čítať online aj offline, nech už ste kdekoľvek.
Laptopy a počítače
Audioknihy zakúpené v službe Google Play môžete počúvať prostredníctvom webového prehliadača v počítači.
Čítačky elektronických kníh a ďalšie zariadenia
Ak chcete tento obsah čítať v zariadeniach využívajúcich elektronický atrament, ako sú čítačky e‑kníh Kobo, musíte stiahnuť príslušný súbor a preniesť ho do svojho zariadenia. Pri prenose súborov do podporovaných čítačiek e‑kníh postupujte podľa podrobných pokynov v centre pomoci.