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垂直共振腔面射型雷射的發展與量產將近40年，在光通訊與光資訊領域已經成為不可或缺的主動光源最佳解決方案，並在近10年陸續應用在各式各樣的感測器相關用途，因此相關產業也開始進入高速成長期。
本書主要針對大專院校及研究所具備物理、電子電機、材料、半導體與光電科技相關背景的學生以及相關產業研發人員，提供一個進階課程所需的參考書。全書共分為七章，第一章將介紹面射型雷射發展歷程，第二章主要說明半導體雷射操作原理接續第三章針對面射型雷射結構設計考量與第四章動態操作等特性分析，第五章介紹目前最廣泛應用的砷化鎵系列材料面射型雷射製程技術，第六章探討長波長面射型雷射製作技術以及在光通訊、光資訊以及感測技術上的應用，第七章介紹採用氮化鎵系列材料製作短波長面射型雷射之最新進展以及相關應用及發展趨勢。
臺灣在面射型雷射技術研發已經形成涵蓋上中下游的磊晶成長、晶粒製程與封裝模組的完整產業鏈，希望讀者能藉由本書了解相關產業發展概況並激發深入研究的動機與興趣。
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Acerca del autor
盧廷昌
現職
國立陽明交通大學光電系 講座教授
穩懋半導體 首席科學家
榮譽
OPTICA Fellow、SPIE Fellow、全球前2％頂尖科學家、科技部傑出研究獎、
尤信介
現職
國立陽明交通大學照明與能源光電研究所 助理教授
國立成功大學智慧半導體及永續製造學院暨光電系 兼任助理教授
榮譽
國立陽明交通大學110學年度優良教學獎，108、109、
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